超声波清洗机在光学元件清洗中如此重要的原因是什么？

薄膜的激光损伤与薄膜的微缺陷密切相关。微缺陷是薄膜激光损伤的主要原因。绝大多数激光损伤始于薄膜的缺陷点，并逐渐向外发展。因此，在系统的高通量运行中，光学元件表面留下的杂质污染物会产生杂质缺陷或涂层后节瘤缺陷，从而导致玻璃或涂层表面的高抛光损伤，降低光学元件的损伤阀值。此外，光学元件表面残留的有机污染物不仅表面残留的有机污染物不仅能产生有机吸收和热镜片，降低损伤阀值，还能降低光学元件膜层的附着力。因此，需要更高的通量，光学元件具有更高的激光损伤阀值，这就要求光学元件具有更高的清洁度。

因此，光学元件在加工过程中和涂涂层前进行清洁，以确保元件表面的高清洁度，并提高元件的抗激光损伤能力。为了确保清洁方法在实际加工中的有效性，并确保清洁方法对光学元件具有高效的清洁能力，而不破坏光学元件。近年来，国内外发展了许多新的清洁技术，如机械清洁技术、冰清洁技术、激光清洁技术、超声波和兆声波清洁技术，其中在光学元件清洁行业，超声波清洁技术作为一种高效、高清洁的清洁方法开始逐渐取代手动清洁。

根据光学元件表面污染物的物理特性，污染物可分为有机物、复合物和无机物。

超声波清洗效果与清洗液的温度和浓度、清洗频率、超声波功率等工艺参数密切相关。超声波频率与待清洗污染物颗粒的大小直接相关：超声波频率越小，腐蚀气泡越多，清洗污染物颗粒越多，超声波频率越大，清洗污染物颗粒越小。